Chimico

William Standish Knowles

1917 - 2012

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La sua biografia è disponibile in 54 lingue su Wikipedia (in aumento rispetto a 51 nel 2024). William Standish Knowles è il 174° chimico più popolare (in aumento dal 196° nel 2024), la 885ª biografia più popolare della Stati Uniti (in aumento dal 1212ª nel 2019) e il 40° chimico più popolare della Stati Uniti.

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#1

William Standish Knowles è la personalità più memorabile tra le 3 persone illustri nate a Taunton, Massachusetts, Stati Uniti.

1 giu

William Standish Knowles condivide il compleanno (1 giugno) con Marilyn Monroe, Murad II e Brigham Young.

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Tra Chimico

Tra Chimico, William Standish Knowles occupa la posizione 174 su 602. Prima di lui ci sono Paul-Émile Lecoq de Boisbaudran, Robert Bruce Merrifield, Derek Barton, Richard F. Heck, Marie-Anne Paulze Lavoisier, e Akira Suzuki. Dopo di lui ci sono Alan J. Heeger, Max Perutz, Robert Curl, Sergey Prokudin-Gorsky, Felix Hoffmann, e Peter J. Ratcliffe.

Chimico più popolari su Wikipedia

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Contemporanei

Tra le persone nate nel 1917, William Standish Knowles occupa la posizione 32. Prima di lui ci sono Anthony Burgess, Donald Davidson, Sidney Sheldon, Leonid Hurwicz, Óscar Romero, e Andrew Huxley. Dopo di lui ci sono Otto Günsche, Nur Muhammad Taraki, Barry Nelson, Joan Fontaine, Kiro Gligorov, e Mel Ferrer. Tra le persone decedute nel 2012, William Standish Knowles occupa la posizione 33. Prima di lui ci sono Griselda Blanco, Larry Hagman, Gunnar Sønsteby, Andrew Huxley, Hebe Camargo, e Carlos Fuentes. Dopo di lui ci sono Sun Myung Moon, Antonio Tabucchi, Robin Gibb, Kiro Gligorov, John Demjanjuk, e Pope Shenouda III of Alexandria.

Altre persone nate nel 1917

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Altre persone decedute nel 2012

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In Stati Uniti

Tra le persone nate in Stati Uniti, William Standish Knowles occupa la posizione 885 su 20,380. Prima di lui ci sono Paul Simon (1941), Richard F. Gordon Jr. (1929), Richard Meier (1934), Robert R. Livingston (1746), Herbert Spencer Gasser (1888), e Don Johnson (1949). Dopo di lui ci sono Frances E. Allen (1932), Alan J. Heeger (1936), David Koch (1940), Jack Palance (1919), Frederick Reines (1918), e Ray Kroc (1902).

Tra Chimico in Stati Uniti

Tra Chimico nati in Stati Uniti, William Standish Knowles occupa la posizione 40. Prima di lui ci sono Marshall Warren Nirenberg (1927), Robert W. Holley (1922), Paul D. Boyer (1918), Willard Libby (1908), Robert Bruce Merrifield (1921), e Richard F. Heck (1931). Dopo di lui ci sono Alan J. Heeger (1936), Robert Curl (1933), Thomas A. Steitz (1940), Richard R. Schrock (1945), Julius Axelrod (1912), e Paul L. Modrich (1946).

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